特許

J-GLOBAL ID：200903061298278060

X線投影露光装置

発明者： 押野 哲也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-037617
公開番号（公開出願番号）：特開平11-238666
出願日： 1998年02月19日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】ウエハと反射鏡の間隔を大きくすることは、結像光学系の光学性能を低下させるため、極めて困難であった。【解決手段】少なくとも、X線源1と、該X線源1から発生するX線を所定のパターンを有するマスク4上に照射する照明光学系2と、該マスク4からのX線を受けて前記パターンの像を基板6上に投影結像する投影結像光学系3と、前記基板6を保持する基板ステージ7と、該基板6の前記投影結像光学系4の光軸方向の位置を光学的に検出する位置検出装置8とを有するX線投影露光装置であって、前記投影結像光学系をX線を反射する複数の反射鏡31〜34で構成し、該複数の反射鏡31〜34の間に、前記位置検出装置8の少なくとも一部を配置することを特徴とするX線投影露光装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも、X線源と、該X線源から発生するX線を所定のパターンを有するマスク上に照射する照明光学系と、該マスクからのX線を受けて前記パターンの像を基板上に投影結像する投影結像光学系と、前記基板を保持する基板ステージと、該基板の前記投影結像光学系の光軸方向の位置を光学的に検出する位置検出装置とを有するX線投影露光装置であって、前記投影結像光学系をX線を反射する複数の反射鏡で構成し、該複数の反射鏡の間に、前記位置検出装置の少なくとも一部を配置することを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/207

FI (5件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 531 J ,  H01L 21/30 531 M