特許

J-GLOBAL ID：200903061301030775

蒸着装置

発明者： 前川 利幸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294733
公開番号（公開出願番号）：特開2001-115255
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：

【要約】【課題】 低出力で高融点の蒸着物質に使用でき、蒸着物質に対する電子ビームの照射状態を安定に保つとともに、蒸着物質全面にわたって加熱温度や温度分布を調整可能な蒸着装置を提供する。【解決手段】 るつぼ2内に蒸着物質1を露出させて収容し、該蒸着物質1の露出面に電子ビーム3を照射してその照射スポット面を加熱するための電子ビーム発生源6を備えた蒸着装置において、複数の電子ビーム発生源6を備え、前記蒸着物質1上で各電子ビーム3の照射スポット面が重なるとともに、その重なり部の面積が可変となるように配設した。

請求項（抜粋）：

るつぼ内に蒸着物質を露出させて収容し、該蒸着物質の露出面に電子ビームを照射してその照射スポット面を加熱するための電子ビーム発生源を備えた蒸着装置において、複数の電子ビーム発生源を備え、前記蒸着物質上で各電子ビームの照射スポット面が重なるとともに、その重なり部の面積が可変となるように配設したことを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/30 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285

FI (3件)：

C23C 14/30 B ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/285 P

Fターム (6件)：

4K029CA01 ,  4K029DB21 ,  4M104DD35 ,  5F103AA01 ,  5F103BB60 ,  5F103DD28