特許
J-GLOBAL ID:200903061302862260

超純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 箕浦 清
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-197687
公開番号(公開出願番号):特開平6-015263
出願日: 1992年07月01日
公開日(公表日): 1994年01月25日
要約:
【要約】【目的】 2次純水系(サブシステム)のカートリッジポリシャー(CP)のシリカ負荷を低減し、CPの長期安定運転及び系全体の水質向上を可能とした超純水製造装置を提供する。【構成】 1次純水系中に1次純水系でシリカ濃度を所望のグレードに低減するためのパック型シリカポリシャーを設置したものである。
請求項(抜粋):
イオン交換式の純水製造装置の後段に、塔内に強塩基性アニオン交換樹脂をその樹脂の再生膨潤分だけの余裕をもたせて隙間なく充填し、向流再生を行うパック型のシリカポリシャーを設置したことを特徴とする超純水製造装置。

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