めっき処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：萩原康司 , 金本哲男 , 亀谷美明 , 和田憲治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-091365
公開番号（公開出願番号）：特開2009-242878
出願日： 2008年03月31日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：

【課題】めっき槽内のめっき液の温度や流動を均一にすることで、ワーク等の被めっき物に均一なめっきを施すことが可能なめっき処理装置を提供する。【解決手段】リザーブ槽20からポンプ50によってめっき液Bをめっき槽10へ導入させ、多孔管60の吐出口62よりめっき槽10上方へ吐出させることで、めっき槽10内のめっき液Bに流動が与えられる。このとき、吐出口62が複数箇所に設けられ、また、その開口方向が多孔管60の上方および両側方であり、さらに、多孔管60の上部に多孔質板90が設けられていることから、めっき槽10内のめっき液Bの流動は均一化される。また、めっき液Bの温度については、リザーブ槽20内に設けられたヒーター80、ヒーター制御部81および攪拌機70によって調節され、その後に温度調節されためっき液Bがめっき槽10へ導入される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ワークにめっきを施すめっき処理装置であって、ワークを浸漬させるめっき槽と、前記めっき槽の四方を囲むオーバーフロー部と、前記オーバーフロー部と連通するリザーブ槽と、前記リザーブ槽から前記めっき槽へ液体を補給する液補給ポンプとを備えることを特徴とする、めっき処理装置。

IPC (2件)：

C25D 17/00 , C23C 18/31

FI (2件)：

C25D17/00 K , C23C18/31 E

Fターム (7件)：

4K022AA42 , 4K022BA14 , 4K022DA01 , 4K022DB17 , 4K022DB18 , 4K022DB20 , 4K022DB30

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開H6ー81156号公報
特開H6-179976号公報
特開H11-117076号公報

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