特許

J-GLOBAL ID：200903061314206570

高屈折率レンズ用樹脂の製造法

発明者： 亘 文 恵 ,  井 坂 勉
出願人/特許権者： 三菱油化株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-185190
公開番号（公開出願番号）：特開平6-032843
出願日： 1992年07月13日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 高屈折率レンズ樹脂の製造【構成】 式〔I〕の含イオウビス(メタ)アクリレートと式〔II〕等のチオール化合物と式〔V〕のスチレン単量体と必要に応じて特定の式〔VI〕の光重合開始剤および(または)特定のパーオキシエステルとを含んでなる重合性組成物、および熱重合および光重合併用による重合硬化によるレンズ用樹脂の製造法。(例えば、P-ビス(β-アクリロイルオキシエチルチオ)キシリレン(例えば、ペンタエリストールテトラキス(チオグリコレート)(例えば、スチレン)(例えば、4-フェニルベンゾフェノン)

請求項（抜粋）：

下記の成分(1)〜(5)を含んでなる組成物を活性エネルギー線の照射によって硬化反応させることを特徴とする、高屈折率レンズ用樹脂の製造法(ただし、成分(1)〜(3)は、その合計を100重量部とする)。成分(1):下記一般式〔I〕で示される含イオウビス(メタ)アクリレート 50〜98重量部(式中、R1は、水素原子またはメチル基を示す。R2は、炭素数1〜6のアルキレン基を示す。Arは、炭素数がいずれも6〜30であるアリーレン基、アラルキレン基、あるいはフッ素を除くハロゲン原子で置換されたそれらの基を示す。Xは-O-または-S-を示す。Yは、Xが-O-のときは-S-または-SO2-を、Xが-S-のときは-S-、-SO2-、また-CO-を示すか、あるいは炭素数がいずれも1〜12であるアルキレン基、アラルキレン基、アルキレンエーテル基、アラルキレンエーテル基、アルキレンチオエーテル基およびアラルキレンチオエーテル基から選ばれた基を示す。mおよびnは、それぞれ1〜5の整数を示す。pは、0〜10の数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。)成分(2):下式〔II〕、〔III 〕および〔IV〕でそれぞれ表される化合物からなる群から選ばれるメルカプト化合物 1〜30重量部〔式中、R3は-CH2-または-CH2CH2-を示し、R4はエーテル酸素を含んでもよい炭素数2〜15の炭化水素残基を示し、aは2〜6の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕【化1】【化2】〔式中、R5およびR6はそれぞれ炭素数1〜3のアルキレン基を示し、eおよびfはそれぞれ0または1、gは1または2を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕成分(3):下式〔V〕で表されるスチレン単量体 1〜49重量部【化3】〔式中、R7は水素原子またはメチル基を示し、Zはフッ素を除くハロゲン原子、hは0または1〜5の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕成分(4):下式〔VI〕で表される光重合開始剤化合物 0.01〜0.3重量部【化4】〔式中、R8はフェニル基またはフェノキシ基を示し、iおよびjはそれぞれ0または1の整数(ただし、i+j≠0)を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。〕成分(5):ベンゾフェノン系紫外線吸収剤およびベンゾトリアゾール系紫外線 吸収剤から選ばれる紫外線吸収剤 0.01〜0.2重量部

IPC (9件)：

C08F220/38 MMU ,  C08F220/38 MMV ,  C08F 2/38 MCN ,  C08F 2/50 MDP ,  C08F 2/50 MDQ ,  C08F299/02 MRR ,  G02B 1/04 ,  C08F220/38 ,  C08F212:04