光導波路の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-289813
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125727
出願日： 1997年10月22日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】光導波路を構成する各層を所望形状に正確に形成でき、信号光の損失が低くかつ散乱が少い光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】光導波路は基板に形成されるバッファ層とコアと上部クラッド層とを備えている。この光導波路は工程S1から工程S4にかけてCVD法及びPVD法等によってバッファ層、コア及び上部クラッド層が形成される。そして工程S5において上部クラッド層の表面にクロムなどからなる保護膜が蒸着されるなどして形成される。工程S6においてHIP法(熱間静水圧加圧法)によってクラッド層の外周側から加熱・加圧することにより、クラッド層などに含まれるボイドが埋まるとともにバッファ層、コア及び上部クラッド層が高密度で透明度が高く形成される。前記保護膜は、工程S7においてエッチングなどによって除去される。

請求項（抜粋）：

クラッド層によって覆われたコアを有する光導波路の製造方法において、前記クラッド層およびコアを低温膜形成方法によって形成したのち、クラッド層の周囲より前記低温膜形成方法よりも高い温度で加熱および加圧処理を施すことを特徴とする光導波路の製造方法。

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