特許

J-GLOBAL ID：200903061333189997

成膜装置

発明者： 堀江 邦明 ,  鈴木 秀直 ,  荒木 裕二 ,  柴崎 光直
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-313751
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150497
出願日： 1998年11月04日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】 気化器やその下流側に不可避的に生成する付着物による成膜の劣化を防止して、高品質の成膜を行なわせることができる成膜装置を提供する。【解決手段】 液体原料を気化させる気化器10と、前記気化器で生成された原料ガスを用いて基板上に成膜を行う気密な成膜室12と、前記気化器と成膜室とを連絡する原料ガス搬送流路16bとを備え、前記原料ガス搬送流路の成膜室直前の箇所に前記原料ガス中に含まれるパーティクルを捕捉するフィルタ32a,32bが設けられている。

請求項（抜粋）：

液体原料を気化させる気化器と、前記気化器で生成された原料ガスを用いて基板上に成膜を行う気密な成膜室と、前記気化器と成膜室とを連絡する原料ガス搬送流路とを備え、前記原料ガス搬送流路の成膜室直前の箇所に前記原料ガス中に含まれるパーティクルを捕捉するフィルタが設けられていることを特徴とする成膜装置。

IPC (6件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/455 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822

FI (4件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 D ,  H01L 27/10 651 ,  H01L 27/04 C

Fターム (21件)：

4K030AA11 ,  4K030BA42 ,  4K030EA01 ,  4K030KA22 ,  4K030KA45 ,  4K030KA49 ,  5F038AC15 ,  5F038EZ14 ,  5F038EZ20 ,  5F045BB15 ,  5F045DP01 ,  5F045EC07 ,  5F045EE03 ,  5F045EE04 ,  5F045EE10 ,  5F083AD00 ,  5F083FR01 ,  5F083JA06 ,  5F083JA14 ,  5F083JA15 ,  5F083PR21