イオン処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-361357
公開番号（公開出願番号）：特開平6-203786
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：

【要約】【目的】低エネルギーの電子をファラデーカップ内に導入できるようにし、それによってイオンビーム照射に伴う基板の帯電を効果的に抑制することができるようにしたイオン処理装置を提供する。【構成】プラズマ36を生成するプラズマ生成容器22をファラデーカップ8の外に設け、引出し電極44によってプラズマ36中から電子38を低エネルギーで筒50内に引き出し、この低エネルギーの電子38を、コイル52によって作られる筒50の軸方向に沿う磁束Bによってガイドすることによって、効率良くファラデーカップ8内へ導入するようにした。

請求項（抜粋）：

基板を保持するホルダと、このホルダの上流側に設けられていて二次電子のアースへの逃げを防止するファラデーカップとを備え、このファラデーカップ内を通してイオンビームをホルダ上の基板に照射して当該基板を処理するイオン処理装置において、前記ファラデーカップの壁面の一部に設けられた孔と、この孔の外側に設けられていてプラズマを生成するプラズマ源と、このプラズマ源内のプラズマ中から電子を引き出す引出し電極と、この引出し電極にプラズマ源に対して正電圧を印加する引出し電源と、前記引出し電極の電子引き出し側と前記ファラデーカップの孔との間を連結する筒と、この筒内にその軸方向に沿う磁束を発生させる磁束発生手段とを備えることを特徴とするイオン処理装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 , C23C 14/48 , H01L 21/265

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平3-093141
特開平3-093141
特開昭63-033566

審査官引用 (3件)

特開平3-093141
特開平3-093141
特開昭63-033566

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