押し出し成形高分子物品のプラズマ処理方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷川昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-213068
公開番号（公開出願番号）：特開平11-049879
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】押し出し成形された高分子材料からなる物品の表面を清浄に保った状態でその表面にプラズマ処理を施すことができる押し出し成形高分子物品のプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】押し出し成形装置4の押し出し口41から真空容器1内に高分子材料からなる物品S2を押し出し成形する。一方、真空容器1内には処理用ガス供給部3から処理用ガスを導入し、また誘導コイル電極2に高周波電源22からマッチングボックス21を介して電力供給して処理用ガスをプラズマ化する。物品S2は送りローラ51a、51b及び送りガイド52aにより順次真空容器1内の処理位置に送り、この間物品S2のローラ51a、51b間に配置された部分をプラズマに曝して所定の処理を行う。このようにして、押し出し成形物品S2に順次プラズマ処理を施す。

請求項（抜粋）：

高分子材料を押し出し成形して高分子物品を得るにあたり、該物品の押し出し成形された部分から順に、大気に曝すことなく、処理用ガスに電力供給して得られたプラズマのもとでプラズマ処理を施すことを特徴とする押し出し成形高分子物品のプラズマ処理方法。

IPC (4件)：

C08J 7/00 306 , C23C 16/26 , C23C 16/50 , C23C 16/54

FI (4件)：

C08J 7/00 306 , C23C 16/26 , C23C 16/50 , C23C 16/54

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