光ディスクおよびその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝本智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094861
公開番号（公開出願番号）：特開平8-282106
出願日： 1995年04月20日
公開日（公表日）： 1996年10月29日
要約：

【要約】【目的】角速度一定で使用する場合に内周から外周の全領域において記録、消去、再生のすべての特性に優れる光ディスクと、このような光ディスクを安定かつ高速に成膜可能な方法とを提供する。【構成】光ディスクの記録膜組成はGe,Sb,Teの3元素を含み、Ge,Sb,Teの比率は図1のA,B,C,Dで囲まれた範囲とし、光ディスクの全領域でGeとTeの組成比が同じで、光ディスクの内周から外周にかけてSb量を減少させる。またその製造方法としては、基板を中心軸を共通とする複数のリング状ターゲットに対向し、中心軸が基板とターゲットとで一致するように設置し、複数のリング状ターゲットの組成を異なるものとして、記録膜を複数のリング状ターゲットからの同時スパッタリング法で作製する。

請求項（抜粋）：

光の照射によって光学的に識別可能な状態間で変化する記録膜を基板上に有する光記録再生媒体において、前記記録膜の組成は、少なくともGe,Sb,Teの3元素を含み、Ge,Sb,Teの3元素のat%比率が下記A,B,C,Dの各点で囲まれる範囲内で、A:(Ge,Sb,Te)=(50, 0,50)B:(Ge,Sb,Te)=( 0,40,60)C:(Ge,Sb,Te)=( 0,55,45)D:(Ge,Sb,Te)=(45,10,45)さらに、前記記録膜の全領域でGeとTeとの組成比が概ね同じで、かつ前記光記録再生媒体の内周から外周にかけてSb量が減少することを特徴とする光ディスク。

IPC (3件)：

B41M 5/26 , G11B 7/24 511 , G11B 7/26 531

FI (3件)：

B41M 5/26 X , G11B 7/24 511 , G11B 7/26 531

引用特許：

審査官引用 (42件)

特開平4-119537
特開平4-119537
特開平1-211249

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