特許
J-GLOBAL ID：200903061431991351
結晶方位分布測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-285569
公開番号（公開出願番号）：特開2002-168809
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：
【要約】【課題】 結晶方位の空間的分布の特徴を抽出して解析することが可能な結晶方位分布測定方法を提供する。【解決手段】 本発明の結晶方位分布測定方法は、電子線後方散乱回折像やコッセル回折像を用いて試料表面の結晶粒の結晶方位を測定し、前記結晶方位の分布をマッピングする結晶方位分布測定方法であって、注目する結晶方位との偏差角が、任意の特定値以下である点に1、任意の特定値より大きな点に0というように、各々二値的な値を対応させ、注目する結晶方位の空間的分布を求め、さらには、前記注目する結晶方位の空間的分布を、自己相関関数により特徴づけることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
電子線後方散乱回折像やコッセル回折像を用いて試料表面の結晶粒の結晶方位を測定し、前記結晶方位の分布をマッピングする結晶方位分布測定方法であって、注目する結晶方位との偏差角が、任意の特定値以下である点に1、任意の特定値より大きな点に0というように、各々二値的な値を対応させ、注目する複数個の結晶方位の空間的分布を求めることを特徴とする結晶方位分布測定方法。
Fターム (12件)：
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001GA06
, 2G001GA07
, 2G001GA13
, 2G001JA13
, 2G001JA16
, 2G001KA08
, 2G001LA02
, 2G001MA05
