特許
J-GLOBAL ID:200903061440812370
エレクトロニクス用洗浄剤
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-367504
公開番号(公開出願番号):特開2006-169470
出願日: 2004年12月20日
公開日(公表日): 2006年06月29日
要約:
【課題】 従来よりも改善された洗浄性、リンス性および防蝕性を有するエレクトロニクス用洗浄剤を提供する。【解決手段】 下記(A)〜(E)を含有することを特徴とするエレクトロニクス用洗浄剤である。(A);炭素数8〜20の炭化水素および総炭素数4〜16の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる1種以上の疎水性化合物(B);融点が20°C以下で炭素数8〜26の脂肪族アルコール(C);特定のグリコールエーテル(D);両性界面活性剤(D1)および特定のイオン性界面活性剤(D2)からなる群から選ばれる1種以上の界面活性剤(E);水【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記(A)〜(E)を含有することを特徴とするエレクトロニクス用洗浄剤。
(A);炭素数8〜20の炭化水素および総炭素数4〜16の脂肪族カルボン酸アルキルエステルからなる群から選ばれる1種以上の疎水性化合物
(B);融点が20°C以下で炭素数8〜26の脂肪族アルコール
(C);一般式(1)で示されるグリコールエーテル
(D);両性界面活性剤(D1)および一般式(2)で示されるイオン性界面活性剤(D2)からなる群から選ばれる1種以上の界面活性剤
(E);水
R1-O-(XO)n-R2 (1)
[式中、R1は炭素数4〜8の炭化水素基、R2は水素原子または炭素数1〜4の炭化水素基、Xは炭素数2〜4のアルキレン基、nは1〜4の整数を示す。]
IPC (9件):
C11D 3/18
, B08B 3/08
, C11D 1/40
, C11D 1/88
, C11D 3/20
, C11D 3/22
, C23G 5/036
, G02F 1/13
, H01L 21/304
FI (9件):
C11D3/18
, B08B3/08 Z
, C11D1/40
, C11D1/88
, C11D3/20
, C11D3/22
, C23G5/036
, G02F1/13 101
, H01L21/304 647A
Fターム (35件):
2H088FA21
, 2H088MA20
, 3B201AA46
, 3B201BB94
, 4H003AB07
, 4H003AB27
, 4H003AD04
, 4H003DA15
, 4H003EB02
, 4H003EB04
, 4H003EB06
, 4H003EB09
, 4H003ED02
, 4H003ED29
, 4H003FA04
, 4H003FA15
, 4H003FA23
, 4K053QA07
, 4K053RA08
, 4K053RA09
, 4K053RA40
, 4K053RA41
, 4K053RA48
, 4K053RA51
, 4K053RA54
, 4K053RA57
, 4K053RA61
, 4K053RA63
, 4K053RA64
, 4K053SA04
, 4K053SA18
, 4K053TA17
, 4K053YA02
, 4K053YA03
, 4K053ZA10
引用特許:
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