特許

J-GLOBAL ID：200903061443625628

加工・処理装置と走査型プローブ顕微鏡の複合化装置

発明者： 村山 健 ,  長澤 潔 ,  星野 吉弘 ,  森本 高史 ,  黒田 浩史 ,  小野里 陽正 ,  井村 亮 ,  保坂 純男
出願人/特許権者： 日立建機株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-040391
公開番号（公開出願番号）：特開平9-211008
出願日： 1996年02月02日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】基板等を加工・処理する装置内に走査型プローブ顕微鏡を設けて複合化を行い、加工・処理装置でのプロセスの前後、中間段階で、試料の表面性状を短時間に効率よく測定し、装置全体をコンパクト、かつ安価に製作する。【解決手段】試料を加工・処理する装置11において、試料表面を測定する走査型プローブ顕微鏡16をその装置内部に保護機構21,22 を介して設ける。保護機構により、走査型プローブ顕微鏡を加工・処理装置内に直接に設けることが可能となり、専用の測定室を設ける必要がないので、装置がコンパクト化され、真空引きの時間や試料搬送のための時間を短縮でき、効率よく試料の加工・処理と表面観察を行える。

請求項（抜粋）：

試料の加工・処理装置に、前記試料の表面を測定する顕微鏡を付設するように構成した複合化装置において、前記顕微鏡は走査型プローブ顕微鏡であり、この走査型プローブ顕微鏡を前記加工・処理装置の内部に保護機構を介して設けたことを特徴とする加工・処理装置と走査型プローブ顕微鏡の複合化装置。

IPC (6件)：

G01N 37/00 ,  C23F 4/00 ,  G01B 21/30 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/66

FI (6件)：

G01N 37/00 A ,  C23F 4/00 A ,  G01B 21/30 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/302 Z