ピット露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：加藤朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-354366
公開番号（公開出願番号）：特開平10-188284
出願日： 1996年12月19日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】2本の露光ビームの配置する間隔を形成される光ディスクパターンの半径方向の隣合わないパターンとなるように配置することにより、2ビームの相互の影響によるビームの強度分布の悪化を防止し、2ビーム間隔の測定、調整を可能にする2ビーム露光方法の提供。【解決手段】Vグルーブ1を露光する第1の露光ビーム6とVグルーブ1間のランドにピット2を露光する第2の露光ビーム7とをトラックピッチ4の1.5倍の1.74μm間隔に設定し、1トラックの送りピッチを1.16μmとして順次露光することにより、2ビームの相互の影響によるビーム強度分布の悪化を防止できるため従来と同じ露光パターンを良好に露光形成することが可能となる。

請求項（抜粋）：

2本の露光ビームをレジスト円板の半径方向に平行に配置し光ディスクパターンを形成する2ビーム露光方法において、前記2本の露光ビームの配置する間隔を、形成される光ディスクパターンの半径方向の隣合わないパターンとなるように、配置したことを特徴とする2ビーム露光方法。

IPC (2件)：

G11B 7/00 , G11B 7/26 501

FI (2件)：

G11B 7/00 K , G11B 7/26 501

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