特許

J-GLOBAL ID：200903061490543095

真空吸着装置

発明者： 中堀 安浩
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-083748
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289675
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：

【要約】【課題】ステージ板を介してウエハに熱を短時間で均一に伝えるとともに、高精度な保持を行う。【解決手段】ステージ板1の一主面Aをウエハ吸着面とする真空吸着装置であって、前記ステージ板1は熱伝導率が90W/m・K以上の窒化アルミニウム質焼結体から成り、かつ少なくとも一主面A上に純度98.5重量%以上のニッケルからなる導電膜2が被着されている。

請求項（抜粋）：

ステージ板の一主面をウエハ吸着面とする真空吸着装置であって、前記ステージ板は熱伝導率が90W/m・K以上の窒化アルミニウム質焼結体から成り、かつ少なくとも一主面上に純度98.5重量%以上のニッケルからなる導電膜が被着されていることを特徴とする真空吸着装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C04B 41/88 ,  C04B 41/90 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

H01L 21/68 P ,  C04B 41/88 E ,  C04B 41/90 A ,  H01L 21/66 D ,  H01L 21/66 Z

Fターム (10件)：

4M106DJ02 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA10 ,  5F031HA13 ,  5F031HA37 ,  5F031MA33 ,  5F031PA14 ,  5F031PA23