特許
J-GLOBAL ID：200903061493691940
半導体製品の製造システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-364232
公開番号（公開出願番号）：特開2006-173373
出願日： 2004年12月16日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】 装置異常監視の判定項目の登録解除と判定基準を自動更新することのできる装置異常監視システムを備えた製造システムを提供する。【解決手段】 ウェハを対象製品とした製造システムにおいて、ライン上流に位置する加工装置21の装置異常監視システム22と、ライン下流に位置する製品検査装置51の製品異常監視システム52を備え、これらのライン制御システム60として、何れかの異常検知イベントを起点にして製品品質と装置状態のデータを収集するウェハトレースシステム61と、トレース収集したデータの照合分析を行い、最新の製造ライン状況に合わせた監視項目の見直しと再計算した判定基準の更新を行うライン品質管理システム62を備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくともひとつの加工装置と、少なくともひとつの製品検査装置とを用いて材料基板上に微細素子を集積加工する半導体製品の製造システムであって、
前記製造システムは、
前記加工装置の状態を計測し、この状態計測値の異常を予め設定した判定基準に基づいて監視する装置異常監視システムと、
半導体製品の品質を前記製品検査装置により計測し、この品質計測値の異常を予め設定した判定基準に基づいて監視する製品異常監視システムと、
前記加工装置および前記製品検査装置への半導体製品の投入制御と、前記状態計測値および前記品質計測値の収集とを行うライン制御システムとから構成され、
前記ライン制御システムは、
半導体製品に加工される材料基板の各個体に識別番号名を割り当てて装置への各製品個体の投入制御と計測値収集制御を行い、前記装置異常監視システムの装置異常検知を起点に加工対象の製品個体を製造ライン下流の製品検査装置まで追跡する、あるいは前記製品異常監視システムの製品異常検知を起点に製品個体を製造ライン上流で加工した加工装置の状態計測値を逆追跡する半導体製品トレースシステムと、
前記装置異常検知あるいは前記製品異常検知を起点にして、前記半導体製品トレースシステムにより追跡あるいは逆追跡した加工装置の状態計測値と半導体製品の品質計測値との照合分析から、品質変動の原因となった加工装置とこの加工装置の状態計測値とを特定し、さらに特定した加工装置の判定基準を計算して、この特定した加工装置の状態計測値の異常監視の登録あるいは解除と判定基準の更新とを異常検知を起点に実施するライン品質管理システムとを有することを特徴とする半導体製品の製造システム。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, G05B 23/02
, H01L 27/092
, H01L 21/823
H01L21/02 Z
, G05B23/02 V
, H01L27/08 321D
5F048AC03
, 5F048BA01
, 5F048BB03
, 5F048BB15
, 5F048BB16
, 5F048BD10
, 5H223AA01
, 5H223BB01
, 5H223CC01
, 5H223DD07
, 5H223DD09
, 5H223EE06
, 5H223EE08
, 5H223EE11
, 5H223FF06
