特許

J-GLOBAL ID：200903061500417816

微細加工型の製造方法

発明者： 江草 恵美子 ,  柳生 裕聖 ,  林 茂彦 ,  入江 正浩
出願人/特許権者： 三ツ星ベルト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-127895
公開番号（公開出願番号）：特開2001-310331
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年11月06日
要約：

【要約】【課題】 可視域のレーザを用いて比較的弱いレーザ強度を加工することができ、かつマスクを使用することなく大気中で微細で鮮明なパターンを形成することができる微細加工型の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 金属微粒子、保護高分子あるいは高分子マトリクス、紫外線硬化剤、そして溶媒を含んだ金属微粒子分散液からなる薄膜3を基板1上に形成する工程、この薄膜3を紫外線5照射することによって硬化させる工程、そして硬化した薄膜3にレーザ光19を照射してパターン付けした型20を作製する工程からなる微細加工型22の製造方法にある。

請求項（抜粋）：

微細なパターンを有する型の製造方法において、金属微粒子、保護高分子あるいは高分子マトリクス、紫外線硬化剤、そして溶媒を含んだ金属微粒子分散液からなる薄膜を基板上に形成する工程、上記薄膜を紫外線照射することによって硬化させる工程、硬化した薄膜にレーザ光を照射してパターン付けした型を作製する工程、からなることを特徴とする微細加工型の製造方法。

IPC (5件)：

B29C 33/38 ,  B23K 26/00 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  H01S 3/00

FI (5件)：

B29C 33/38 ,  B23K 26/00 G ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  H01S 3/00 B

Fターム (17件)：

2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097FA02 ,  2H097HA02 ,  2H097LA15 ,  4E068DA00 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ03 ,  4F202CA03 ,  4F202CB01 ,  4F202CD03 ,  4F202CD18 ,  5F072AA02 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK15 ,  5F072RR03 ,  5F072YY06