インクジェット記録装置およびその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-245120
公開番号（公開出願番号）：特開平11-000999
出願日： 1997年09月10日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：

【要約】【課題】インクジェット記録装置のノズル配列の高密度化に従って、オリフィスの容積が減少し、所望の吐出量が得られないという課題があった。【解決手段】ノズルプレート1となる(110)面方位の単結晶Si基板に耐エッチング皮膜として熱酸化膜13、14を形成し、熱酸化膜13、14にフォトエッチングを施し、ノズル11、ノズルを貫通するための裏面側のエッチング部15およびオリフィス12に対応する部分111、151、121の熱酸化膜を除去する。ノズル11およびオリフィス12に対応する部分にYAGレーザで穴明け加工し、アルカリ液によりエッチングを行い、ノズル11が所望長さとなったところで停止する。熱酸化膜13、14を除去し、耐インク性付与のために改めて熱酸化膜15、16を形成してノズルプレート1を完成させる。

請求項（抜粋）：

オリフィスが形成されたSi基板を構成部材とするインクジェット記録装置において、前記Si基板が(110)面方位のSi単結晶基板であり、前記オリフィスは前記Si基板の所定箇所への穴明け加工の後に湿式エッチングを施して形成されたものであることを特徴とするインクジェット記録装置。

IPC (3件)：

B41J 2/135 , B41J 2/045 , B41J 2/055

FI (2件)：

B41J 3/04 103 N , B41J 3/04 103 A

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