特許

J-GLOBAL ID：200903061502801028

化学的気相成長装置

発明者： 斉藤 真佐雄 ,  福永 由紀夫
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-080474
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273638
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】 ガス分散板に堆積する反応生成物を重点的に除去することができるクリーニング手段を設け、所定枚数の成膜ごとに行っているガス分散板のウエットクリーニングの回数を減少させ、装置の稼働率を大幅に向上させることができる化学的気相成長装置を提供すること。【解決手段】 気密な反応室1の内部に原料ガスを均一に供給するガス分散板2と被成膜基板が対向して配置された化学的気相成長装置において、ガス分散板2の被成膜基板に対向する面に堆積した反応生成物を高周波スパッタリングで除去するクリーニング手段を設け、該クリーニング手段でガス分散板2をクリーニングすることにより、ウエットクリーニングの回数を減少させる。

請求項（抜粋）：

気密な反応室の内部に原料ガスを均一に供給するガス分散板と被成膜基板が対向して配置された化学的気相成長装置において、前記ガス分散板の被成膜基板に対向する面に堆積した反応生成物を高周波スパッタリングで除去するクリーニング手段を設けたことを特徴とする化学的気相成長装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 16/44 J ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/31 D

Fターム (24件)：

4G077TG02 ,  4G077TH13 ,  4K030AA14 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030DA06 ,  4K030EA01 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030KA12 ,  4K030KA17 ,  4K030KA45 ,  5F045AF19 ,  5F045BB08 ,  5F045BB10 ,  5F045BB14 ,  5F045EB02 ,  5F045EB05 ,  5F045EB08 ,  5F045EH05 ,  5F045EN08