特許

J-GLOBAL ID：200903061506221581

電子ビーム走査方法及び装置

発明者： 濱野 哲男 ,  山口 久夫
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-008633
公開番号（公開出願番号）：特開平7-216541
出願日： 1994年01月28日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：

【要約】【目的】 電子ビームが、円形の材料面を均一に走査することができ、材料を収容した坩堝が電子ビームに照射されず損傷されない電子ビーム走査方法及び装置を提供する。【構成】 電子ビームの進行方向に垂直な平面上にあって互いに直交する方向に電子ビームを偏向する2つの偏向用電磁石2x、2yに、互いに90度の位相差と同一周波数を有し且つ振幅が互いに同期して変化する制御電流を加え、電子ビームが該制御電流の大きさに応じた半径の円形に走査するようにした方法及び装置。図2において、5は制御電源である。

請求項（抜粋）：

電子ビームの進行方向に垂直な平面上にあって互いに直交する方向に電子ビームを偏向する2つの偏向手段に制御電流又は電圧を加えることにより電子ビームを走査する方法において、前記2つの偏向手段には、互いに90度の位相差と同一周波数を有し且つ振幅が互いに同期して変化する制御電流又は電圧を加え、電子ビームが該制御電流又は電圧に応じた半径の円形に走査するようにしたことを特徴とする電子ビーム走査方法。

IPC (3件)：

C23C 14/30 ,  C22B 9/22 ,  H01J 37/30

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-149864
  
• 特開昭62-089825