光伝送路中に屈折率分布を形成する方法および光フィルタとその使用方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-001597
公開番号（公開出願番号）：特開平9-189815
出願日： 1996年01月09日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】【課題】良好な制御性でかつ短時間で光伝送路内に屈折率分布を形成し得る方法および光フィルタとその使用方法を提供する。【解決手段】光伝送路内に屈折率分布を形成する方法は、クラッド(2,2a)の表面に感光物質層(3)を塗布し、フォトリソグラフィ技術を用いて感光物質層のマスクパターン(3a)を形成し、そのマスクパターン(3a)を介して可視光の波長以下の波長の電磁波を光伝送路(10,10a)に照射することによって、コア(1)内でマスクパターン(3a)に対応した屈折率の変動分布を形成することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

コアとクラッドを含む光伝送路を準備し、前記クラッドの表面に感光物質層を塗布し、フォトリソグラフィ技術を用いて前記感光物質層をパターン化してマスクパターンを形成し、前記マスクパターンを用いながら、可視光の波長以下の波長を有する電磁波を前記光伝送路に照射することによって、前記コア内で前記マスクパターンに対応した屈折率の変動分布を形成することを特徴とする光伝送路中に屈折率分布を形成する方法。

IPC (4件)：

G02B 6/10 , G02B 6/00 306 , G02B 6/13 , G02B 6/16

FI (4件)：

G02B 6/10 C , G02B 6/00 306 , G02B 6/16 , G02B 6/12 M

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