特許
J-GLOBAL ID：200903061535069110
非晶相均質化ポリエチレン樹脂およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
半田 昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-227355
公開番号（公開出願番号）：特開2004-083604
出願日： 2002年08月05日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】ポリエチレン樹脂の酸化、変質による結晶化度の低下などを極力防止し樹脂の劣化を抑制することができる樹脂およびその製造方法を提供する。【解決手段】炭酸リチウム触媒によるポリエチレン樹脂の球晶の縮小または消滅により樹脂の非晶相の不均質分布を均質化処理し、この処理により樹脂の衝撃力による電気的、機械的および熱的強度の耐性を向上し改質する。さらに赤外線照射による触媒処理効果の促進により処理時間を短縮し、樹脂の酸化および変質劣化などを極力抑制した非晶相均質化ポリエチレン樹脂を提供する。【選択図】 図11
請求項（抜粋）：
赤外線を照射しながら溶融させたポリエチレン樹脂を炭酸リチウムと接触させて前記ポリエチレン樹脂の球晶を縮小または消滅させ、かつ前記炭酸リチウムを除去することにより、前記ポリエチレン樹脂の非晶相不均質分布を均質分布としたことを特徴とする非晶相均質化ポリエチレン樹脂。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (8件)：
4J100AA02P
, 4J100CA01
, 4J100CA31
, 4J100DA41
, 4J100HA00
, 4J100HA55
, 4J100HB37
, 4J100HE00
