特許
J-GLOBAL ID：200903061535135740
表面洗浄装置および表面洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-108797
公開番号（公開出願番号）：特開2003-303800
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：
【要約】【課題】薬液を使用せず、被処理体の構造へ損傷を与えずに、被処理体に付着した付着物を除去することのできる表面洗浄装置および表面洗浄方法を提供する。【解決手段】被処理体表面へ直接照射されない角度でのレーザ光照射手段4により、被処理体Wの付着物の近傍の雰囲気に焦点を形成するようにレーザ光LBが照射されることにより、被処理体Wの付着物の近傍の雰囲気をブレイクダウンさせる。レーザブレイクダウンは、レーザ光LBを雰囲気中に集光し、雰囲気を構成する気体分子/原子を電界破壊することを称し、このブレイクダウンによって、雰囲気を構成する分子や原子は、イオン化およびラジカル化されるとともに、衝撃波や熱やプラズマが放射される。そして、このブレイクダウンにより発生する衝撃波、熱、イオン、ラジカル等の作用によって、被処理体W上の付着物が除去される。
請求項（抜粋）：
レーザ光を用いて被処理体の表面に存在する付着物を除去する表面洗浄装置であって、前記被処理体の前記付着物の近傍の雰囲気に焦点を形成し、焦点位置の雰囲気をブレイクダウンさせ得るパワー密度をもつ前記レーザ光を照射するレーザ光照射手段を有する表面洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 645
, B08B 5/00
, B08B 7/00
H01L 21/304 645 D
, B08B 5/00 A
, B08B 7/00
3B116AA02
, 3B116AA03
, 3B116AB03
, 3B116AB47
, 3B116BB88
, 3B116BC01
