特許
J-GLOBAL ID:200903061540635069

プロセス監視装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-033331
公開番号(公開出願番号):特開平8-226829
出願日: 1995年02月22日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】【目的】複数の表示画面にプロセスの監視情報を表示するプロセス監視制御システムのプロセス監視操作装置において、監視性・操作性の優れた監視情報表示方法を提供する。【構成】複数の表示画面に表示中の監視情報の共通表示仕様を提供する表示仕様指定入力受付部35と,表示画面上の表示仕様の一括変更を指示する表示仕様変更指示入力受付部36と,各表示画面上に表示する情報を格納する表示画面情報格納域39と,表示画面情報格納域39の情報に従い各表示画面上に情報を表示するプロセス監視情報表示処理部33を有する。【効果】複数の表示画面に表示中の監視情報を、一括して同一表示仕様に加工し表示できることにより、監視性・操作性の向上の効果がある。
請求項(抜粋):
プラントの複数のプロセス量に関する情報を、所定の表示仕様に従って一画面上に表示させるようにしたプロセス監視装置において、外部からの指示入力を受け付ける指示入力部を設け、該指示入力部により前記表示仕様を指示入力することによって、前記表示された複数のプロセス量に関する情報のうち、少なくとも2つの表示仕様を、前記指示入力部により指示入力された表示仕様に変更させて表示するように構成したことを特徴とするプロセス監視装置。
IPC (2件):
G01D 7/00 301 ,  G05B 23/02 301
FI (2件):
G01D 7/00 301 M ,  G05B 23/02 301 T
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 事象再現装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-196182   出願人:株式会社日立製作所
  • プロセス運用支援システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-212333   出願人:株式会社日立製作所

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