特許
J-GLOBAL ID：200903061541673126
炭酸ジアリールの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-089278
公開番号（公開出願番号）：特開平9-278714
出願日： 1996年04月11日
公開日（公表日）： 1997年10月28日
要約：
【要約】【課題】 アリールクロロホルメートの含量が少い炭酸ジアリールの製法の提供。【解決手段】 芳香族モノヒドロキシ化合物とホスゲンとを芳香族含窒素複素環化合物触媒の存在下に反応させて炭酸ジアリールを製造する方法において、第1工程:芳香族モノヒドロキシ化合物1当量に対し、ホスゲン0.44〜0.5当量を反応させて、炭酸ジアリールとアリールクロロホルメートを未反応の芳香族モノヒドロキシ化合物に対し当量以下で生成させる工程、第2工程:第1工程で得られた反応液に対して、アリールクロロホルメートと芳香族モノヒドロキシ化合物との脱塩酸反応を行なって炭酸ジアリールを製造する工程、上記2段階の反応工程を経ることを特徴とする炭酸ジアリールの製造方法。
請求項（抜粋）：
芳香族モノヒドロキシ化合物とホスゲンとを芳香族含窒素複素環化合物触媒の存在下に反応させて炭酸ジアリールを製造する方法において、第1工程:芳香族モノヒドロキシ化合物1当量に対し、ホスゲン0.44〜0.5当量を反応させて、炭酸ジアリールとアリールクロロホルメートを未反応の芳香族モノヒドロキシ化合物に対し当量以下で生成させる工程、第2工程:第1工程で得られた反応液に対して、アリールクロロホルメートと芳香族モノヒドロキシ化合物との脱塩酸反応を行なって炭酸ジアリールを製造する工程、上記2段階の反応工程を経ることを特徴とする炭酸ジアリールの製造方法。
IPC (4件)：
C07C 69/96
, B01J 31/02 102
, C07C 68/02
, C07B 61/00 300
C07C 69/96 Z
, B01J 31/02 102
, C07C 68/02 A
, C07B 61/00 300
