特許
J-GLOBAL ID：200903061547436193
半導体ウェハカセットの基準位置決定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-307311
公開番号（公開出願番号）：特開平7-137804
出願日： 1993年11月11日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：
【要約】【目的】 オペレータが目視で確認せずにカセットの挿入基準位置を決定できる方法を提供する。【構成】 真空ポンプを稼働させつつ、水平アーム24をカセット10の所定の段に挿入された半導体ウェハ12の下方側から上昇させ、真空計で圧力を測定する。そして、圧力の測定値が所定の基準値以下になった時点における水平アーム24の高さを測定する。半導体ウェハ12が挿入されている段の高さと挿入基準位置の高さとの差分は予め決まっているので、この差分と、測定された水平アーム24の高さとからコンピュータがカセット10の挿入基準位置の高さを算出する。
請求項（抜粋）：
半導体ウェハを収納するための複数の段を有するカセットを載置するカセット台と、前記カセットに収納された半導体ウェハを一枚ずつ真空吸着して保持するための吸着穴を上面に有する水平アームと、前記水平アームを少なくとも水平方向および垂直方向に駆動する駆動機構と、前記水平アームの上記吸着穴に連通する管路と、前記管路に接続された真空ポンプと、前記管路に接続された真空計と、制御を行なうためのコンピュータと、を備える半導体ウェハ搬送装置において、前記カセット台に載置されたカセットにおける半導体ウェハの挿入基準位置の高さを決定する方法であって、(A)所定の段に半導体ウェハが装荷されたカセットを前記カセット台に載置する工程と、(B)前記真空ポンプを稼働させつつ、前記駆動機構によって前記水平アームを前記所定の段に装荷された前記半導体ウェハの下方側から上昇させ、前記真空計で測定される圧力が所定の値以下になった時点における前記水平アームの高さを測定する工程と、(C)前記カセットの前記所定の段の高さと前記挿入基準位置の高さとの間の所定の差分と、前記工程(B)で測定された前記水平アームの高さとから、前記コンピュータが前記カセットの挿入基準位置の高さを算出する工程と、を備えることを特徴とする半導体ウェハカセットの基準位置決定方法。
IPC (4件)：
B65G 1/00 545
, B65G 49/07
, G01R 31/26
, H01L 21/68
