電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上柳雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-142134
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057640
出願日： 2002年05月16日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】フォトリソグラフィ技術を利用して透明基板上に感光性樹脂層を形成する際の露光異常を防止して、表示品位の高い画像を表示することのできる電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】反射型あるいは半透過・半反射型の電気光学装置100のTFTアレイ基板10を製造する際、感光性樹脂13を塗布した後、TFTアレイ基板10の裏面側を吸着チャック500で保持した状態でTFTアレイ基板の表面側から感光性樹脂13に対する露光を行う。この際、感光性樹脂層12の下層側に遮光膜1gが形成されているので、TFTアレイ基板10を透過した光が吸着チャック500で反射して吸引孔501の痕などが感光性樹脂13に転写されてしまうなどの不具合を回避することができる。

請求項（抜粋）：

電気光学物質を保持する透明基板に、所定の配置パターンで凹凸が形成された感光性樹脂層と、該感光性樹脂層の上層側で当該感光性樹脂層と平面的に重なる領域に形成された光反射膜とを有し、該光反射膜の表面には前記感光性樹脂層の配置パターンに対応する凹凸が形成されてなる電気光学装置において、前記透明基板上には、前記感光性樹脂層より下層側で、少なくとも前記凹凸が形成されている領域と平面的に重なる領域に遮光膜が形成されていることを特徴とする電気光学装置。

IPC (5件)：

G02F 1/1335 520 , G02F 1/1335 500 , G02F 1/1368 , H01L 21/336 , H01L 29/786

FI (4件)：

G02F 1/1335 520 , G02F 1/1335 500 , G02F 1/1368 , H01L 29/78 612 D

Fターム (72件)：

2H091FA16Y , 2H091FA34Y , 2H091FA35Y , 2H091FA41Z , 2H091FB04 , 2H091FC12 , 2H091FC22 , 2H091FC23 , 2H091FC26 , 2H091GA07 , 2H091GA13 , 2H091HA07 , 2H091HA10 , 2H091LA17 , 2H091LA18 , 2H091LA19 , 2H092GA13 , 2H092GA17 , 2H092GA29 , 2H092JA05 , 2H092JA24 , 2H092JA42 , 2H092JA46 , 2H092JB05 , 2H092JB07 , 2H092JB42 , 2H092JB52 , 2H092JB54 , 2H092JB57 , 2H092JB62 , 2H092KA18 , 2H092KB25 , 2H092MA05 , 2H092MA10 , 2H092MA13 , 2H092MA17 , 2H092MA29 , 2H092NA01 , 2H092PA06 , 2H092PA09 , 2H092PA12 , 2H092PA13 , 2H092QA07 , 2H092QA10 , 5F110AA30 , 5F110BB02 , 5F110BB04 , 5F110CC02 , 5F110DD02 , 5F110DD13 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE06 , 5F110EE44 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF29 , 5F110GG02 , 5F110GG13 , 5F110GG25 , 5F110GG45 , 5F110HJ01 , 5F110HL03 , 5F110HL04 , 5F110HL06 , 5F110HM15 , 5F110NN02 , 5F110NN23 , 5F110NN35 , 5F110NN72 , 5F110NN73 , 5F110PP03

引用特許：

審査官引用 (3件)

反射型液晶表示装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-152047 出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
液晶表示装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-129338 出願人：ソニー株式会社
特開平3-042601

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