特許
J-GLOBAL ID：200903061557847639
有機ELディスプレイとその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
渡辺 敬介
, 山口 芳広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-355758
公開番号（公開出願番号）：特開2008-166168
出願日： 2006年12月28日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
【課題】アクティブマトリクス型の有機ELディスプレイに対する表面処理を改良し、信頼性が高く消費電力が少なく高画質な有機ELディスプレイを提供する。【解決手段】少なくとも基板と、該基板上に形成された画素電極と、該画素電極の周辺部を覆うように形成され前記画素電極への開口を有する素子分離膜と、該素子分離膜の開口を覆うように形成された発光層を含む有機化合物層と、該有機化合物層の表面に形成された対向電極とからなる画素を有する有機ELディスプレイの製造法において、前記素子分離膜の開口の形成後に基板を乾燥雰囲気に保持したまま、画素電極に選択的な表面処理を施して、有機化合物層を形成することを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも基板と、該基板上に形成された画素電極と、該画素電極の周辺部を覆うように形成され前記画素電極への開口を有する素子分離膜と、該素子分離膜の開口を覆うように形成された発光層を含む有機化合物層と、該有機化合物層の表面に形成された対向電極とからなる画素を有する有機ELディスプレイの製造法において、
素子分離膜の開口の形成後に基板を乾燥雰囲気に保持したまま、画素電極に選択的な表面処理を施して、有機化合物層を形成することを特徴とする、有機ELディスプレイの製造法。
IPC (5件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/26
, H05B 33/22
, H05B 33/12
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/26
, H05B33/22 Z
, H05B33/12 B
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC14
, 3K107CC21
, 3K107DD21
, 3K107DD26
, 3K107DD89
, 3K107DD91
, 3K107EE03
, 3K107FF17
, 3K107GG23
, 3K107GG28
