特許

J-GLOBAL ID：200903061569808000

ポジ型レジスト組成物

発明者： 漢那 慎一 ,  水谷 一良
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-202241
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015298
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ良好な溶解コントラストを有するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)、(II)及び(VI)で示される繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)、(II)及び(VI)中、R1、R5、R17a及びR17は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。R2、R3、R6及びR7は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基、アルケニル基、アリール基若しくはアラルキル基を表す。R50〜R55は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。但し、R50〜R55の内、少なくとも1つは、フッ素原子又は少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。R4は、下記一般式(IV)又は(V)の基を表す。R18は、-C(R18d)(R18e)(R18f)又は-C(R18d)(R18e)(OR18g)を表す。R18d〜R18gは、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基若しくはアリール基を表す。R18d、R18e、R18fの内の2つ又はR18d、R18e、R18gの内の2つが結合して環を形成してもよい。【化2】一般式(IV)中、R11、R12及びR13は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基を表す。一般式(V)中、R14及びR15は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。R16は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基若しくはアリール基を表す。R14〜R16の内の2つが結合し、環を形成してもよい。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (35件)：

2H025AA04 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB01S ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL02S ,  4J100AL08R ,  4J100AM14S ,  4J100AR11R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BB07Q ,  4J100BB10R ,  4J100BB12P ,  4J100BB12R ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38