特許

J-GLOBAL ID：200903061571845509

基板処理装置

発明者： 森田 彰彦 ,  大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-260369
公開番号（公開出願番号）：特開平9-102444
出願日： 1995年10月06日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：

【要約】【課題】 静電気による基板へのパーティクルの付着を防止することができ、かつ静電気により基板に付着したパーティクルを除去することができる基板処理装置を提供することである。【解決手段】 基板100に洗浄処理、塗布処理、現像処理等の処理を行う基板処理装置において、基板待機部となる基板搬入搬出装置50、基板搬送装置40、あるいは回転式洗浄部10、回転式塗布部20、回転式現像部30等の処理部の上部に、イオンを発生するイオナイザ60を配設し、静電気を電気的に中和する。

請求項（抜粋）：

処理前または処理後の基板を待機させる基板待機部の上部に、前記基板待機部にイオンを供給するイオン供給手段を配設したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68 ,  H05F 3/04

FI (6件)：

H01L 21/02 Z ,  H01L 21/02 D ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/68 A ,  H05F 3/04 D ,  H01L 21/30 503 G