特許

J-GLOBAL ID：200903061587608973

薬液処理装置

発明者： 高野 径朗
出願人/特許権者： シグマメルテック株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-184768
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017764
出願日： 1995年06月28日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】 回転ステージの周壁を常に清浄に維持し、クリーンで欠陥のない高品質基板を作成する薬液処理装置を提供する。【構成】 回転ステージを囲む吸水性周壁と前記吸水性周壁に洗浄液を供給する手段とからなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

回転ステージに基板を水平に載置して薬液処理する装置において、前記回転ステージを囲む吸水性周壁と洗浄液供給手段とからなることを特徴とした薬液処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  H05K 3/26

FI (7件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 351 S ,  B08B 3/02 B ,  G02F 1/13 101 ,  H05K 3/26 A ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 J