特許
J-GLOBAL ID:200903061588017316

無機系多孔質体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 喜多 俊文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-177199
公開番号(公開出願番号):特開2002-362918
出願日: 2001年06月12日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】本発明は、互いに連続したμmサイズの細孔(スルーポア)と、nmサイズの細孔(メソポア)を有するシリカ骨格が絡み合った構造を持つ2重細孔構造を有し、しかもpH8以上の溶液に対しても安定なシリカゲルの提供を目的とする。【解決手段】本発明は、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物と、少なくとも1個の金属・炭素結合を介して結合した非加水分解性の有機官能基と、加水分解性の官能基とを含む有機金属化合物を加水分解・重合して反応溶液系のゲル化を行った後、ゲル中の不要物質を除去し、加熱するものである。
請求項(抜粋):
加水分解性の官能基を有する有機金属化合物と、少なくとも1個の金属・炭素結合を介して結合した非加水分解性の有機官能基と加水分解性の官能基とを含む有機金属化合物を加水分解・重合して反応溶液系のゲル化を行った後、ゲル中の不要物質を除去し、加熱することを特徴とする無機系多孔質体の製造方法。
IPC (3件):
C01B 33/12 ,  C01B 13/32 ,  C08G 77/04
FI (3件):
C01B 33/12 C ,  C01B 13/32 ,  C08G 77/04
Fターム (27件):
4G042DA01 ,  4G042DB11 ,  4G042DC03 ,  4G042DE07 ,  4G042DE14 ,  4G072AA28 ,  4G072BB15 ,  4G072CC10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072MM01 ,  4G072PP05 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072UU07 ,  4G072UU11 ,  4G072UU17 ,  4J035BA12 ,  4J035CA01K ,  4J035CA112 ,  4J035CA132 ,  4J035CA142 ,  4J035CA192 ,  4J035EA01 ,  4J035FB06 ,  4J035LB14
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る