特許

J-GLOBAL ID：200903061589890153

近接場露光用マスク及びその製造方法、露光装置及び方法

発明者： 稲生 耕久 ,  黒田 亮
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-239663
公開番号（公開出願番号）：特開2003-050457
出願日： 2001年08月07日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 解像度、スループット及び経済性に優れた露光をもたらす近接場露光用マスク及びその製造方法、露光装置及び方法を提供する。【解決手段】 基板に支持されて露光光を透過するマスク母材と、該マスク母材上に形成されて前記露光光を遮光する遮光膜と、被露光体に密着される突出部を定義する凹凸部と、近接場光を利用して前記被露光体を露光するためのパターンを定義するスリット部とを含む薄膜部を有することを特徴とする近接場露光用マスクを提供する。

請求項（抜粋）：

基板に支持されて露光光を透過する薄膜状マスク母材と、該マスク母材上に形成されて前記露光光を遮光する遮光膜と、被露光体に密着される突出部を形成する凹凸部と、近接場光を利用して前記被露光体を露光するためのパターンを形成するスリット部とを有することを特徴とする近接場露光用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 G ,  G03F 1/14 A ,  H01L 21/30 502 D ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (10件)：

2H095BA04 ,  2H095BA07 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11 ,  2H095BC22 ,  2H095BC27 ,  2H095BC28 ,  5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046CB17