特許
J-GLOBAL ID：200903061596962992
欠陥検出装置およびその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-047721
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258239
出願日： 1993年03月09日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】高速、高精度に、全自動で異物等の欠陥を検出できるようにして、全数の欠陥検査、十分な欠陥検査頻度の抜き取り検査を実現し、高効率の基板製造ラインを得るようにした欠陥検出装置およびその方法を提供する。【構成】ピッチの異なる繰り返しパターンを有する基板1を搬送する搬送手段と、基板1に対して平面波の光を直線状にして照射する照明系102と、空間フィルター106と、空間フィルター106を通して得られ、結像光学系で結像された光像を検出する検出器107と、検出器107で検出された信号の内、空間フィルター106を通して得られる基板上のピッチの大きな繰り返しパターンに基いて発生する信号同志を比較して消去する消去手段203と、消去手段203から得られる信号に基いて基板上の欠陥を検出する欠陥検出手段206、208〜210、229とを備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ピッチの異なる繰り返しパターンを有する基板に対して平面波の光を直線状にして照射する照明系と、該照明系によって照射された基板からの反射光像を結像する結像光学系と、該結像光学系の途中に基板上のピッチの小さな繰り返しパターンからの回折光を遮光するように設置された空間フィルターと、該空間フィルターを通して得られ、前記結像光学系で結像された光像を検出する検出器と、該検出器で検出された信号の内、前記空間フィルターを通して得られる基板上のピッチの大きな繰り返しパターンに基いて発生する信号同志を比較して消去する消去手段と、該消去手段から得られる信号に基いて基板上の欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えたことを特徴とする欠陥検出装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/30
, G06F 15/62 405
, H01L 21/66
