特許

J-GLOBAL ID：200903061613086425

接着ウエーハの面方位ズレ精密測定方法

発明者： 奥山 哲也
出願人/特許権者： 住友シチックス株式会社
代理人 (1件)： 森 正澄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-316228
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169811
出願日： 1993年12月16日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 面方位ズレの高精度且つミクロ的な測定が可能になると共に、この測定箇所に制約を受けない接着ウエーハの面方位ズレ精密測定方法を提供すること。【構成】 透過型電子顕微鏡を用いて接着ウエーハの基板と活性層とから観測される回折斑点に基づき、該基板と活性層との面方位ズレ角度を測定する接着ウエーハの面方位ズレ精密測定方法であって、基板と活性層とを含む該ウエーハ試料の基板と活性層とに、電子顕微鏡の電子線ビームを個別に入射し電子回折画像を得て、この画像上の基板と活性層とから生じる回折斑点を同一位置としたときの、該画像上の基板と活性層とから生じる菊池線の間隔量から上記面方位ズレ角度を下式により算出する。ε=(x/Lλ)・λ但しε:基板/活性層間の面方位ズレ角度(ラジアン)x:画像上で実測された基板/活性層から生じる菊池線の間隔量(mm)λ:電子顕微鏡の電子線波長(nm)Lλ:電子顕微鏡のカメラ定数

請求項（抜粋）：

透過型電子顕微鏡を用いて接着ウエーハの基板と活性層とから観測される回折斑点に基づき、概基板と活性層との面方位ズレ角度を測定する接着ウエーハの面方位ズレ精密測定方法において、基板と活性層とを含む該ウエーハ試料の基板と活性層とに、電子顕微鏡の電子線ビームを個別に入射し電子回折画像を得て、この画像上の基板と活性層とから生じる回折斑点を同一位置としたときの、該画像上の基板と活性層とから生じる菊池線の間隔量から前記面方位ズレ角度を下式により求めることを特徴とする接着ウエーハの面方位ズレ精密測定方法。ε=(x/Lλ)・λ但しε:基板/活性層間の面方位ズレ角度(ラジアン)x:画像上で実測された基板/活性層から生じる菊池線の間隔量(mm)λ:電子顕微鏡の電子線波長(nm)Lλ:電子顕微鏡のカメラ定数

IPC (2件)：

H01L 21/66 ,  H01L 27/12