特許

J-GLOBAL ID：200903061619752834

被膜形成用塗布液、その製造方法および被膜付基材

発明者： 松 田 政 幸 ,  小 松 通 郎
出願人/特許権者： 触媒化成工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-351648
公開番号（公開出願番号）：特開平5-163464
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：

【要約】【構成】 無機化合物コロイド粒子と、アセチルアセトナトキレート、アルコキシシランおよび金属アルコキシドの部分加水分解物から選ばれた少なくとも1種の被膜形成成分とが、有機溶媒中に含まれ、この被膜形成用塗布液中のイオン濃度が1.0ミリモル/リットル以下である被膜形成用塗布液、および被膜形成用塗布液の製造過程で陽イオン交換樹脂による処理と陰イオン交換樹脂による処理とを行なって被膜形成用塗布液の中のイオン濃度を1.0ミリモル/リットル以下に調整する被膜形成用塗布液の製造方法、ならびにこのような被膜形成用塗布液から形成された被膜が基材上に積層されている被膜付基材。【効果】 この塗布液を用いて基材表面に形成した被膜は、均一な凹凸を有すると同時に耐久性に優れている。

請求項（抜粋）：

無機化合物コロイド粒子(a)と、アセチルアセトナトキレート、アルコキシシランおよび金属アルコキシドの部分加水分解物から選ばれた少なくとも1種の被膜形成成分(b)とが、有機溶媒(c)中に含まれ、この被膜形成用塗布液中のイオン濃度が1.0ミリモル/リットル以下であることを特徴とする被膜形成用塗布液。

IPC (5件)：

C09D185/00 PMW ,  B01D 15/04 ,  C08J 7/04 ,  C09D183/00 PMM ,  G11B 5/72

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭64-033724
  
• 特開昭61-229227
  
• 特開平2-137120