特許
J-GLOBAL ID：200903061624586110
シクロヘキセニルフェノール類の製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
児玉 喜博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-008542
公開番号（公開出願番号）：特開2002-212123
出願日： 2001年01月17日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 複雑で高価な製造装置を用いることなく、シクロヘキシリデンビスフェノール類を穏和な条件下に熱分解して、高純度のアルケニルフェノール類を高収率で得ることができる製造方法を提供する。【解決手段】 一般式Iのシクロヘキシリデンビスフェノール類、具体的には、例えば1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-4-ヘプチルシクロヘキサンを、反応槽において、塩基性触媒の存在下、不活性ガス雰囲気中、減圧下に熱分解して、生成するフェノール類を留出させる一方、生成するシクロヘキセニルフェノール類を反応残留液として反応槽に残留させ、この反応残留液からシクロヘキセニルフェノール類を分別して、一般式IIのシクロヘキセニルフェノール類、具体的には、例えば(4-(4-n-ヘプチル-1-シクロヘキセニル)フェノールを得る。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】( 式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を示し、R3 は炭素数1〜12のアルキル基を示し、nは0〜3の整数であり、nが2又は3のとき、R3 は相互に同一でもよく、相違してもよい。)で表わされるシクロヘキシリデンビスフェノール類を、反応槽において、不活性ガス雰囲気中で熱分解して、生成するフェノール類を留出させる一方、生成するシクロヘキセニルフェノール類を反応残留液として反応槽に残留させ、この反応残留液からシクロヘキセニルフェノール類を分別することを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じである。)で表わされるシクロヘキセニルフェノール類の製造方法。
IPC (3件)：
C07C 37/52
, C07C 39/23
, C07B 61/00 300
C07C 37/52
, C07C 39/23
, C07B 61/00 300
4H006AA02
, 4H006AC41
, 4H006AD15
, 4H006FC52
, 4H006FE13
, 4H039CA40
, 4H039CD10
, 4H039CF30
, 4H039CL25
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示
前のページに戻る
