特許
J-GLOBAL ID：200903061627173843
洗浄度測定機構を備えた紫外線洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-332010
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166775
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】表面電位測定方法を利用して被処理物の全面の洗浄度を測定できる洗浄度測定機構を紫外線洗浄装置と一体に形成し、歩留り率の向上、作業能率の向上等を達成するものである。【構成】搬送ラインAに沿って配設した複数の搬送装置3,3′と、前記搬送ラインA上に配置され前記搬送装置3,3′に支持された被処理物2を紫外線照射により洗浄する洗浄装置5と、この洗浄装置5に隣接して配設され前記洗浄装置5で洗浄された被処理物2の洗浄度を測定する洗浄度測定機構6とを備える洗浄度測定機構を備えた紫外線洗浄装置として構成した。
請求項（抜粋）：
搬送ラインに沿って配置した複数の搬送装置と、前記搬送ライン上に配設され前記搬送装置に支持された被処理物を紫外線照射により洗浄する洗浄装置と、この洗浄装置に隣接して配設され前記洗浄装置で洗浄された被処理物の洗浄度を測定する洗浄度測定機構とを備えたことを特徴とする洗浄度測定機構を備えた紫外線洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, G01N 27/60
