特許
J-GLOBAL ID：200903061638373925
低温焼結ゲル及びそれを用いた非線形光学ガラス
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 尚
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287047
公開番号（公開出願番号）：特開平6-080428
出願日： 1991年10月07日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：
【要約】【構成】 ゾル-ゲル法により低温焼結可能なゲルを得て、それを用いて非線形光学ガラスを得る。【構成】 低温焼結ゲルは、Na2O-B2O3-SiO2系においてCdS微結晶が分散されているゲルである。このゲルの製造法は、原料として、テトラメトキシシラン(Si(CH3)4)、ホウ酸トリエチル(B(OC2H5)3)、酢酸ナトリウム(CH3COONa)を用い、加水分解によりゾルを得て、該ゾルに酢酸カドミウム((CH3COO)2Cd)を含浸させ、乾燥してゲルを得た後、硫化水素に曝してCdS微結晶を含むゲルを作成することを特徴としている。このゲルを低温焼結(500〜590°C)すると、2〜5nmサイズのCdS微結晶を8wt%以下で含むNa2O-B2O3-SiO2系の非線形光学ガラスが得られる。10-6〜10-7esuオーダーの非線形感受率を持ち、高速応答が可能である。
請求項（抜粋）：
Na2O-B2O3-SiO2系ゲルにおいて、CdS微結晶が分散されていることを特徴とする低温焼結ゲル。
IPC (3件)：
C03B 8/02
, C03C 3/089
, G02F 1/35 505
