特許
J-GLOBAL ID:200903061639488114

オフセット印刷方法およびオフセット印刷装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 哲也 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-011848
公開番号(公開出願番号):特開2001-219639
出願日: 2000年01月20日
公開日(公表日): 2001年08月14日
要約:
【要約】【課題】 大きなサイズの平板状のワークに対しても、良好なパターン形成、インキ受理・転移性および位置精度を確保する。【解決手段】 シート状または帯状のブランケット104をその両端を印刷方向の前後端において支持することによって懸架する工程と、加圧治具108の押圧ローラ103によって該ブランケット104を上方から押圧して下方の版105またはワーク106に圧着させながら印刷方向に掃引することによって、版105からブランケット104へのインキ受理および該ブランケット104からワーク106へのインキ転移を行う工程と、ブランケット104が版105の面またはワーク106の面となす進入角度αと離脱角度βを、印刷の開始時から終了時までそれぞれ任意の一定角度に制御する工程とを有する。
請求項(抜粋):
シート状または帯状のブランケットをその両端を印刷方向の前後端において支持することによって懸架する工程と、加圧治具によって該ブランケットを上方から押圧して下方の版またはワークに圧着させながら印刷方向に掃引することによって、前記版からブランケットへのインキ受理および該ブランケットからワークへのインキ転移を行う工程とを有することを特徴とするオフセット印刷方法。
IPC (2件):
B41M 1/06 ,  B41F 17/14
FI (2件):
B41M 1/06 ,  B41F 17/14 E
Fターム (8件):
2H113AA01 ,  2H113AA05 ,  2H113BA03 ,  2H113BB09 ,  2H113BB22 ,  2H113CA17 ,  2H113EA01 ,  2H113FA55

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