特許

J-GLOBAL ID：200903061639935196

投影露光装置

発明者： 鈴木 広介
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213459
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036987
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】 レチクルの湾曲又は傾きに起因する投影光学系の結像特性の変化量のみを計測する。【構成】 レチクルとして平面度の良好な基準レチクルR1を載置したときの投影光学系PLの最良結像面P1を求めておく。次に実際に露光するレチクルRを載置した場合の投影光学系PLの最良結像面P2を求める。結像面P2と結像面P1との差分よりレチクルRの湾曲量及び傾き量を求め、この湾曲量及び傾き量による投影光学系PLの結像パターンの歪曲収差及び倍率誤差を算出する。

請求項（抜粋）：

露光光でマスクを均一に照明する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板側に投影する投影光学系と、前記投影光学系の結像面に前記感光基板の露光面がほぼ合致するように前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸方向及び該光軸に垂直な面内で移動自在なステージとを有する投影露光装置において、前記投影光学系の結像面の複数の計測点において前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する位置検出手段と、前記複数の計測点の前記光軸方向の位置より前記投影光学系の像面を求める像面計測手段と、該求められた前記投影光学系の像面から前記マスクの湾曲状態を求める湾曲状態検出手段と、該求められた前記マスクの湾曲状態に起因する前記投影光学系の結像特性の変化量を算出する結像特性演算手段と、該算出された結像特性の変化量を打ち消すように前記投影光学系の結像特性を補正する結像特性補正手段とを有する事を特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-237415
  
• 特開平4-130711
  
• 特開昭62-139330