特許

J-GLOBAL ID：200903061641629922

ガス分散器及びプラズマ処理装置

発明者： 鈴木 摂 ,  徳増 徳 ,  前田 和夫 ,  青木 淳一
出願人/特許権者： キヤノン販売株式会社 ,  株式会社半導体プロセス研究所
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-016503
公開番号（公開出願番号）：特開平9-209151
出願日： 1996年02月01日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】反応ガスをプラズマ化するための対向電極の一つとしての機能を有し、プラズマガスにより成膜やエッチングを行うガス分散器に関し、反応ガスの吹出し口に対して環状に置かれた複数の被処理体上に反応ガスを均等に放出し、放電を抑制する。【解決手段】中央部に凹部107が形成され、凹部107にガスを導入する貫通穴48を有する基体と、凹部107内に設置され、放射方向にガスを導くガス受け部材108と、受け部材108によって導かれたガスを放出する、環状のガス放出具とを有する。

請求項（抜粋）：

中央部にガスを導く第1のガス流路と、前記中央部に導かれたガスを放射方向に分流し、さらに前記中央部から端部に至る中程で前記ガスを前記中央部方向と周辺方向に再分流する第2のガス流路と、前記再分流されたガスを放出する、前記中央部の周りの環状領域に配置されたガス放出孔とを有する第1の電極を兼ねたガス分散器。

IPC (6件)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

C23C 16/44 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-029523
  
• 特開平2-100323
  
• 特開平4-362177