特許

J-GLOBAL ID：200903061680093789

光導波路の製造方法

発明者： 駒野 晴保 ,  岡野 広明
出願人/特許権者： 日立電線株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-169259
公開番号（公開出願番号）：特開2005-004054
出願日： 2003年06月13日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】熱処理時にコアの変形のおそれがなく、かつ、光回路特性の再現性が良好な光導波路の製造方法を提供するものである。【解決手段】本発明に係る光導波路の製造方法は、基板11上にコア12とクラッド13とで構成される光回路14を有する光導波路10の製造方法であり、基板11表面にコア12を構成するガラス膜を成膜する際、O2ガスG1とTEOS及びTiを含有したアルコキシドの各液体材料の蒸気G2,G3との混合ガス25を、プラズマ雰囲気下で熱分解して基板11に接触させ、基板11表面に透明なTiドープSiO2コアガラス膜32を成膜するものである。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板上にコアとクラッドとで構成される光回路を有する光導波路の製造方法において、上記基板表面に上記コアを構成するガラス膜を成膜する際、O2ガスとTEOS及びTiを含有したアルコキシドの各液体材料の蒸気との混合ガスを、プラズマ雰囲気下で熱分解して基板に接触させ、基板表面に透明なTiドープSiO2コアガラス膜を成膜することを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (1件)：

G02B6/13

FI (1件)：

G02B6/12 M

Fターム (5件)：

2H047KA03 ,  2H047KA04 ,  2H047PA03 ,  2H047PA05 ,  2H047QA04