特許
J-GLOBAL ID:200903061684397987
半導体装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
広瀬 和彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-045020
公開番号(公開出願番号):特開2003-250278
出願日: 2002年02月21日
公開日(公表日): 2003年09月05日
要約:
【要約】【課題】 セラミックス基板を小型化できると共に、半導体素子の端子等を容易に半田付けすることができ、製造コストを低減する。【解決手段】 ベースプレート1の表面にセラミックス基板2を接合すると共に、セラミックス基板2の表面にMOSFET4を実装する。また、ベースプレート1の表面にはセラミックス基板2に隣接して絶縁基板6を設けると共に、絶縁基板6の表面には金属配線6A,6Bを形成する。そして、金属配線6A,6BにMOSFET4のドレイン端子D、ソース端子Sをそれぞれ接続すると共に、金属配線6Aにバスバ電極8を接続する。これにより、セラミックス基板2から金属配線を省いて小型化できると共に、高熱抵抗の絶縁基板6に金属配線6A,6Bを形成でき、金属配線6A,6Bに対してMOSFET4の端子等を容易に半田付けすることができる。
請求項(抜粋):
金属材料からなるベースプレートを有し、該ベースプレートの表面には、セラミックス基板と、金属配線を表面に有する絶縁基板とを設け、前記セラミックス基板の表面には、パッケージに実装された半導体素子を設け、該半導体素子の端子は前記絶縁基板の金属配線に接続し、該金属配線はバスバ電極に接続する構成としてなる半導体装置。
IPC (4件):
H02M 7/48
, H01L 23/48
, H01L 25/07
, H01L 25/18
FI (3件):
H02M 7/48 Z
, H01L 23/48 G
, H01L 25/04 C
Fターム (8件):
5H007BB06
, 5H007CA02
, 5H007CB05
, 5H007CB12
, 5H007CC07
, 5H007HA03
, 5H007HA04
, 5H007HA05
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