電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-141626
公開番号（公開出願番号）：特開2002-341523
出願日： 2001年05月11日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】高感度かつ高解像度で、ラインパターンのエッジラフネスが優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する特定の化合物、(b)酸の作用により脱離する基の中に、p-エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(c)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)式(I)〜(IV)のいずれかひとつで表される、電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物、(b)酸の作用により脱離する基の中に、イオン化ポテンシャル値(Ip値)がp-エチルフェノールのIp値より小さい値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(c)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物。【化1】式(I)中、Ar3、Ar4は各々独立に置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は樟脳基を示す。式(II)中、R206は置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は樟脳基を示す。Aは置換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を示す。【化2】【化3】式(III)及び(IV)中、Ro、Rは、それぞれ独立して、置換基を有していても良い、アルキル基又はアリール基を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (14件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025FA17

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