特許
J-GLOBAL ID：200903061696051342
ゾル-ゲル法によるシリカ多孔質体の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
越川 隆夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-027383
公開番号（公開出願番号）：特開平6-219726
出願日： 1993年01月22日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：
【要約】【目的】 得られる多孔質体にクラックが発生し難く、しかも乾燥工程が簡単でかつ短時間ですみ、安価に寸法の大きな多孔質体を製造することのできるゾル-ゲル法によるシリカ多孔質体の製造方法を提供する。【構成】 アルコキシシランを加水分解してシリカゾルとし、該シリカゾルをゲル化後乾燥してシリカ多孔質体を製造する方法において、アルコキシシランとして下記一般式(I)で示される3官能アルコキシシラン又は該3官能アルコキシシランの重縮合物を用い、シリカゾルのゲル化後の乾燥を風乾又は加熱乾燥により行う。【化1】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ同種又は異種の炭素数1〜5のアルキル基又はフェニル基を表し、nは1〜10の整数を表す。)
請求項（抜粋）：
アルコキシシランを加水分解してシリカゾルとし、該シリカゾルをゲル化後乾燥してシリカ多孔質体を製造する方法において、前記アルコキシシランとして下記一般式(I)で示される3官能アルコキシシラン又は該3官能アルコキシシランの重縮合物を用い、前記シリカゾルのゲル化後の乾燥を風乾又は加熱乾燥により行うことを特徴とする、ゾル-ゲル法によるシリカ多孔質体の製造方法。【化1】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ同種又は異種の炭素数1〜5のアルキル基又はフェニル基を表し、nは1〜10の整数を表す。)
IPC (3件)：
C01B 33/16
, C03B 8/02
, C03C 11/00
