特許

J-GLOBAL ID：200903061709024897

光学的にパターンを形成し得る多層素子、その製造方法ならびにこれから形成されるエンボシング板体

発明者： ベルント、ブロンステルト ,  トーマス、レルツァー ,  ヴォルフガング、ヒュマー ,  アレント、ジューケ、キングマ ,  トーマス、テルザー ,  トーマス、ツヴェッツ
出願人/特許権者： ベー・アー・エス・エフ、ラッケ、ウント、ファルベン、アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 田代 烝治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-044073
公開番号（公開出願番号）：特開平6-348021
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 鮮明なレリーフパターンを再現し得る、光学的パターンを形成する積層印刷版体を提供する。【構成】 強固な光学的にパターンを形成し得る層と、この上に施こされた剥離層ないし被覆層とから成り、上記光学的パターン形成性層が場合により接着剤層によって寸法安定性基板シート上に施こされている、レリーフ版体製造用の光学的パターン形成性多層素子であって、上記パターン形成性層上に施こされた剥離層ないし被覆層が、0.01から10μmの一次粒径を有する疏水性の1種類もしくは複数種類の非水溶性重合体微細粉の透明な微細分散多層素子から成り、かつ少なくとも1種類のイオンないし非イオン表面活性剤、あるいは水溶性もしくは水膨潤性のポリマー結合剤の混合物で被覆されている光学的パターン形成性多層素子。

請求項（抜粋）：

少なくとも1層の強固な光学的にパターンを形成し得る層と、この上に施こされた剥離層ないし被覆層とから成り、上記光学的パターン形成性層が場合により接着剤層によって寸法安定性基板シート上に施こされている、レリーフ版体製造用の光学的パターン形成性多層素子であって、上記パターン形成性層上に施こされた剥離層ないし被覆層が、0.01から10μmの一次粒径を有する疏水性の1種類もしくは複数種類の非水溶性重合体微細粉の透明な微細分散多層素子から成り、かつ少なくとも1種類のイオンないし非イオン表面活性剤、あるいは水溶性もしくは水膨潤性のポリマー結合剤、あるいはこのような表面活性剤とこのようなポリマー結合剤の混合物で被覆され、非粘着性剥離層ないし被覆層の全量に対して、上記微細分散、疏水性、非水溶性重合体量が30から99.9重量%であることを特徴とする、光学的パターン形成性多層素子。

IPC (3件)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/00 503