特許

J-GLOBAL ID：200903061712430650

マイクロレンズアレイ形成方法

発明者： 菅 博文 ,  實野 孝久
出願人/特許権者： 浜松ホトニクス株式会社 ,  實野 孝久
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-289506
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125702
出願日： 1997年10月22日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】 半導体レーザーアレイへの取付け前および取付け後におけるマイクロレンズアレイの形状形成を優れた精度で行うことができ、よって、高出力且つ高輝度の半導体レーザー光を発生させて集光させることができる小型な半導体レーザーアレイ装置を実現させることのできる、新しいマイクロレンズアレイ形成方法を提供する。【解決手段】 レーザー光を集光するために必要な幅の活性層を有する半導体レーザー複数により構成された半導体レーザーアレイと、この半導体レーザーアレイのレーザー光出力側に設けられ、出力レーザー光をコリメートするマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイの出力側に設けられ、コリメートレーザー光を集光する集光レンズとを備えた半導体レーザーアレイ装置におけるマイクロレンズアレイの形状を形成する方法であって、レーザーアブレーションにより出力レーザー光をコリメートできるようにマイクロレンズアレイの形状を形成する。

請求項（抜粋）：

レーザー光を集光するために必要な幅の活性層を有する半導体レーザー複数により構成された半導体レーザーアレイと、この半導体レーザーアレイのレーザー光出力側に設けられ、出力レーザー光をコリメートするマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイの出力側に設けられ、コリメートレーザー光を集光する集光レンズとを備えた半導体レーザーアレイ装置におけるマイクロレンズアレイの形状を形成する方法であって、レーザーアブレーションにより出力レーザー光をコリメートできるようにマイクロレンズアレイの形状を形成することを特徴とするマイクロレンズアレイ形成方法。

IPC (3件)：

G02B 3/00 ,  B23K 26/00 ,  H01S 3/094

FI (3件)：

G02B 3/00 A ,  B23K 26/00 G ,  H01S 3/094 S

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光路変換器およびそれを用いたレーザ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-103358   出願人：新日本製鐵株式会社