感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-233255
公開番号（公開出願番号）：特開平11-065120
出願日： 1997年08月15日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】各種放射線に有効に感応し、ライン・アンド・スペースパターン、孤立パターンおよびコンタクトホールの何れの場合にも、良好な形状のパターンを高解像度で解像することができ、多用途に対応可能な化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)p-ヒドロキシ(α-メチル)スチレンに由来する繰返し単位、(メタ)アクリル酸t-ブチルに由来する繰返し単位および(メタ)アクリル酸イソボルニルで代表される繰返し単位の3種の繰返し単位を有する、酸の存在下でアルカリ可溶性となる共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)、一般式(2)および一般式(3)で表される3種の繰返し単位を有する、酸の存在下でアルカリ可溶性となる共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示す。〕【化2】〔一般式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示す。〕【化3】〔一般式(3)において、R3 は水素原子またはメチル基を示し、R4 は炭素数が7以上の脂環式骨格を有する1価の基を示す。〕

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平2-291559
レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-288524 出願人：富士通株式会社
フォトレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-325083 出願人：シプレイ・カンパニー・リミテッド・ライアビリティー・カンパニー

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