特許
J-GLOBAL ID：200903061719566868
位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-007938
公開番号（公開出願番号）：特開平5-197127
出願日： 1992年01月20日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：
【要約】【目的】 Crレス位相シフトマスクに関し,形成パターンの寸法制御性の向上を目的とする。【構成】 透明基板の段差部の両側で透過光の位相をシフトさせるマスクであって,該段差部に密接して所定幅の遮光膜を被着してなるように構成する。
請求項（抜粋）：
透明基板の段差部の両側で透過光の位相をシフトさせるマスクであって,該段差部に密接して所定幅の遮光膜を被着してなることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
